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J-GLOBAL ID：201302238747921866   整理番号：13A1478479

投影リソグラフィーでの整合フィルタ相関を使用したアラインメント技術

Alignment technology using matched filter correlation in projection lithography

著者 (4件)： Lei Liang (School of Physics and Optoelectronic Engineering, Guangdong Univ. of Technol., Guangzhou) ,  Li Langlin (School of Physics and Optoelectronic Engineering, Guangdong Univ. of Technol., Guangzhou) ,  Zhou Jinyun (School of Physics and Optoelectronic Engineering, Guangdong Univ. of Technol., Guangzhou) ,  Wang Qu (School of Physics and Optoelectronic Engineering, Guangdong Univ. of Technol., Guangzhou)
資料名： Liangzi Dianzi Xuebao  (Liangzi Dianzi Xuebao)
巻： 29  号： 6  ページ： 764-768  発行年： 2012年 
JST資料番号： C2419A  ISSN： 1007-5461  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 投影リソグラフィーにおいて,高精度なアラインメントを実現するために,位相単独整合フィルタリングと呼ぶパターン認識法を検討した。この方法では,フィルタでのコヒーレントピーク回転特徴を利用して,シリコン基板とテンプレートの特性方向でアラインメントを達成した。一方,認識アルゴリズムでテンプレートとシリコン基板の相対並進距離を得た。このようなアラインメントシステムは,投影リソグラフィーマシンに集められた。得られた実験データから,在来型のアルゴリズムと比較して精度と効率が高いことを証明した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： 整合フィルタリング ,  計算機アルゴリズム ,  パターン認識 ,  *フォトリソグラフィー ,  アラインメント ,  コヒーレンス ,  ウエハ【IC】 ,  投影法【図法】 ,  整合フィルタ
準シソーラス用語： シリコン基板 ,  認識アルゴリズム

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 投影 ,  リソグラフィー ,  整合フィルタ ,  相関 ,  アラインメント