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J-GLOBAL ID：201302239290913389   整理番号：13A1181456

ドライエッチング多重ステップ工程で得た高度に組織化した多結晶シリコン表面

Highly textured multi-crystalline silicon surface obtained by dry etching multi-step process

著者 (6件)： CECCHETTO L. (ENEA-Research Centre Casaccia Roma, ITA) ,  SERENELLI L. (ENEA-Research Centre Casaccia Roma, ITA) ,  AGARWAL G. (Dep. of Physics, Bhavnagar Univ., Bhavnagar, Gujrat, IND) ,  IZZI M. (ENEA-Research Centre Casaccia Roma, ITA) ,  SALZA E. (ENEA-Research Centre Casaccia Roma, ITA) ,  TUCCI M. (ENEA-Research Centre Casaccia Roma, ITA)
資料名： Solar Energy Materials and Solar Cells  (Solar Energy Materials and Solar Cells)
巻： 116  ページ： 283-290  発行年： 2013年09月 
JST資料番号： D0513C  ISSN： 0927-0248  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： この研究では,シリコン表面の形態の条件付けに,プラズマドライエッチング法の利用を提案した。シリコン表面の組織化の増大を助ける多重ステップ工程には,環境影響が低いNF₃ハロゲン化合物とArの組み合わせを採用し,全ドライエッチング処理に要する時間の短縮と,シリコンウエハ上の鋸歯状損傷の除去を図った。ドライプラズマプロセスパラメータの関数として,表面反射率とエッチング速度を詳しく調べて,光起電力応用のための適当な多結晶シリコン表面を実現する方法を論じたCopyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ポリシリコン ,  *プラズマエッチング ,  アルゴン ,  フッ化窒素 ,  *混合気体 ,  時間圧伸 ,  照射損傷 ,  *プロセスパラメータ ,  反射率 ,  加工速度 ,  時間短縮
準シソーラス用語： エッチング速度

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： ドライエッチング ,  多重 ,  組織化 ,  多結晶シリコン