文献

J-GLOBAL ID：201302239544076610   整理番号：13A0818099

ポリ塩化ビニール基板の流動床加工中の材料除去機構

The Mechanisms of Material Removal in the Fluidized Bed Machining of Polyvinyl Chloride Substrates

著者 (5件)： BARLETTA M. (Universita degli Studi di Roma Tor Vergata, Roma, ITA) ,  TAGLIAFERRI V. (Universita degli Studi di Roma Tor Vergata, Roma, ITA) ,  TROVALUSCI F. (Universita degli Studi di Roma Tor Vergata, Roma, ITA) ,  VENIALI F. (“La Sapienza” Universita degli Studi di Roma, Roma, ITA) ,  GISARIO A. (“La Sapienza” Universita degli Studi di Roma, Roma, ITA)
資料名： Journal of Manufacturing Science and Engineering  (Journal of Manufacturing Science and Engineering)
巻： 135  号： 1  ページ： 011003.1-011003.11  発行年： 2013年02月 
JST資料番号： C0657A  ISSN： 1087-1357  CODEN： JMSEFK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： コスト低減と環境に有利なことから高分子基板の流動床加工(FBM)中の材料除去機構を検討した。ポリ塩化ビニール(PVC)で構成する円筒部品に研磨材の作用を与える一方で,流動床柱内で回転させた。Al₂O₃研磨材媒質とPVC面間の相互作用を検討して,加工時間,研磨材メッシュサイズ,回転速度などの主な工程パラメータの影響を調べた。表面形態の工程パラメータとしての変化を電界放射ガン走査電子顕微鏡法と接触ゲージプロフィルメータ法を用いて調べた。処理表面の仕上の改善を達成し,関連の機構を調べた。衝撃速度と侵食粒子と基板間の接触条件の役割も明らかにした。

シソーラス用語： *流動層 ,  ポリ塩化ビニル ,  *除去 ,  研削材 ,  走査電子顕微鏡
準シソーラス用語： 研磨材 ,  *材料除去 ,  電界放射走査電子顕微鏡 ,  *流動床

分類 (1件)： 機械加工,仕上げ一般  (YH04111G)

タイトルに関連する用語 (3件)： ポリ塩化ビニール ,  流動床 ,  材料除去