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J-GLOBAL ID：201302240645198102   整理番号：13A0948954

オクタデシルシロキサン単分子層の酸化ケイ素表面へのパターン堆積法に使えるインクジェット印刷

Inkjet printing as a tool for the patterned deposition of octadecylsiloxane monolayers on silicon oxide surfaces

著者 (10件)： BELGARDT Christian (Chemnitz Univ. Technol., Chemnitz, DEU) ,  SOWADE Enrico (Chemnitz Univ. Technol., Chemnitz, DEU) ,  BLAUDECK Thomas (Chemnitz Univ. Technol., Chemnitz, DEU) ,  BLAUDECK Thomas (Linkoeping Univ., Norrkoeping, SWE) ,  BAUMGAERTEL Thomas (Chemnitz Univ. Technol., Chemnitz, DEU) ,  GRAAF Harald (Chemnitz Univ. Technol., Chemnitz, DEU) ,  GRAAF Harald (Univ. Kassel, Kassel, DEU) ,  VON BORCZYSKOWSKI Christian (Chemnitz Univ. Technol., Chemnitz, DEU) ,  BAUMANN Reinhard R. (Chemnitz Univ. Technol., Chemnitz, DEU) ,  BAUMANN Reinhard R. (Fraunhofer Inst. for Electronic Nanosystems (ENAS), Chemnitz, DEU)
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 15  号： 20  ページ： 7494-7504  発行年： 2013年05月28日 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： オクタデシルトリクロロシラン(OTS)の自己集合単分子膜のパターンを疎水性化した酸化ケイ素に形成する方法を検討した。高品質の膜が浸漬法で短時間にできることから,メシチレンを溶媒にした,濃度2.0mM,液滴量10pLのインクジェット印刷で成功した。接触角からCassie則で有効被覆率を計算したところ38%で,吸着OTSによるパターン描画は数百ミリ秒の接触時間で十分である。

シソーラス用語： *単分子層 ,  パターン転写 ,  *インクジェット印刷 ,  酸化ケイ素 ,  被覆率 ,  濃度 ,  液滴径 ,  接触時間 ,  堆積 ,  疎水性
準シソーラス用語： パターン描画 ,  液滴サイズ ,  *自己集合単分子膜 ,  表面疎水性

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  印刷技術一般  (ZA05010T)

物質索引 (1件)： オクタデシルトリクロロシラン

タイトルに関連する用語 (4件)： 単分子層 ,  酸化ケイ素 ,  堆積 ,  インクジェット印刷