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J-GLOBAL ID：201302240765019830   整理番号：12A1798759

高周波超音波場における表面張力のキャビテーション雑音スペクトルと粒子除去効率への影響

Influence of surface tension on cavitation noise spectra and particle removal efficiency in high frequency ultrasound fields

著者 (7件)： CAMEROTTO Elisabeth (Imec, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, BEL) ,  BREMS Steven (Imec, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, BEL) ,  HAUPTMANN Marc (Imec, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, BEL) ,  PACCO Antoine (Imec, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, BEL) ,  STRUYF Herbert (Imec, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, BEL) ,  MERTENS Paul W. (Imec, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, BEL) ,  DE GENDT Stefan (Imec, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, BEL)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 112  号： 11  ページ： 114322-114322-9  発行年： 2012年12月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 物理的洗浄法は半導体工業に適用され,半導体素子要素の継続的な縮小でますますチャレンジングになってきている。メガソニック洗浄ではキャビテーションと音響現象が基本的役割を演じる事は知られている。したがって,多数気泡系におけるキャビテーション現象のより良い理解が重要である。ここで,メガヘルツ域におけるより低いバルク表面張力と異なったO₂濃度の気泡活性への影響の研究結果を示した。超純水(72mN/m)に関してより低いバルク表面張力(45mN/m)が非イオン界面活性剤(Triton X-100)を添加して得られた。界面活性剤の特性評価後,異なった音響振幅とガス濃度に対して,Triton X-100含有洗浄液をパルス及び連続波音響場の下で調べた。連続波音響場の下において,超調和振動キャビテーション雑音の方法で測定した,より低い表面張力の存在でキャビテーション活性が強調される事を示した。加えて,パルス波音響場の下でのキャビテーション測定が,最大活性が観測される最適パルスオフ時間の存在を明らかにした。これらの最適パルスオフ時間の値は気泡溶解の理論的時間に結びつけられ,実験的に確認された。最後に,キャビテーション雑音測定を粒子除去とパターン付ウエハへの損傷検査によりメガソニック音響場の洗浄機能と相関させた。Triton X-100が使用された時の最適化されたプロセス条件で,78nm SiO₂粒子の明らかな粒子除去効率増加が得られた。更に,粒子除去効率<60%で,より低い表面張力に対してキャビテーション気泡による欠陥の数は顕著に減少する。ここで報告した結果は,より効率的メガソニック洗浄過程に対して一つの異なった手法を構成している。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *半導体プロセス ,  半導体工業 ,  超音波洗浄 ,  *超音波 ,  音場 ,  *界面張力 ,  *気泡 ,  スペクトル ,  超音波パルス ,  連続波 ,  界面活性剤 ,  損傷 ,  Triton X-100 ,  酸素 ,  超純水 ,  ウエハ【IC】 ,  二酸化ケイ素 ,  除去 ,  *キャビテーション
準シソーラス用語： *キャビテーション気泡 ,  高周波超音波 ,  *雑音スペクトル ,  超音波場 ,  表面張力 ,  粒子除去

分類 (3件)： 半導体の表面構造  (BK15030A) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  膜流,液滴,気泡,キャビテーション  (BC02070U)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高周波超音波 ,  表面張力 ,  キャビテーション ,  雑音スペクトル ,  除去効率