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J-GLOBAL ID：201302241511026638   整理番号：13A0249279

無定形のCo₆₀Fe₂₀B₂₀薄膜の熱,磁気,電気および付着の各特性

Thermal, magnetic, electric, and adhesive properties of amorphous Co₆₀Fe₂₀B₂₀ thin films

著者 (2件)： CHEN Yuan-tsung (Dep. of Materials Sci. and Engineering, I-Shou Univ., Kaohsiung 840, Taiwan, TWN) ,  HSIEH W.h. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, I-Shou Univ., Kaohsiung 840, Taiwan, TWN)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 552  ページ： 283-288  発行年： 2013年03月05日 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： この実験ではdcマグネトロンスパッタリングでCo₆₀Fe₂₀B₂₀ターゲットからガラス基材に1000~5000Åの厚さの単層のCo₆₀Fe₂₀B₂₀薄膜を析出した。基材温度(T_s)を室温(RT)に保持した試料と,T_A=150°C,250°C,350°Cで各1hポストや焼なましした試料を作製し,熱,磁気,電気および付着の特性を分析した。X線回折(XRD)によると薄膜は室温で無定形構造で,ポスト焼きなましで結晶化もしくはナノ結晶化が進行した。無定形CoFeBの結晶構造への変化を解明するためにKissingerの式で結晶化の活性化エネルギー(Q)を計算した。活性化エネルギーは上に凹の形を持ち,活性化エネルギーの臨界厚さは非晶質状態で3000Åであった。蒸着したの3000ÅのCoFeB薄膜は他の薄膜よりも容易に結晶化状態を形成した。低周波数交流磁化率(χ_ac),飽和磁化(M_s),残留磁化(M_r)を含む磁気特性のプロットは下に凹の形であった。CoFeB薄膜のχ_acの特性は150と250°Cのポスト焼きなましで磁気ナノ結晶質異方性のために増加した。各状態で3000Å厚は臨界点であった。しかし,磁気スピン結合の弱化作用のためにT_A=350°Cで1hのポスト焼きまましではχ_acは減少した。各状態のM_sとM_rの結果はχ_acと同様の傾向を示した。蒸着したの薄膜では結晶粒界と表面が電子を散乱するため,その電気抵抗率(ρ)はポスト焼きなましの薄膜のものを超えていた。また,薄い薄膜ほど高いρを持っていた。CoFeB薄膜の表面エネルギーと密着性は,フィッティングしたKissingerプロットと同じ傾向に従った。この結果は結晶化が強いほど表面エネルギーが低くなり,密着が弱くなることを示唆している。表面エネルギーのプロットは上に凹の形を示し,すべての場合に臨界厚さは3000Åであった。上の特性から,CoFeB薄膜は,磁気記録媒体,半導体,種層などの用途に利用できる。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *金属ガラス ,  *コバルト合金 ,  鉄含有合金 ,  ホウ素含有合金 ,  非晶質 ,  *蒸着膜 ,  *熱特性 ,  *磁気的性質 ,  *電気的性質 ,  *密着性 ,  マグネトロンスパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  基板 ,  *焼なまし ,  後熱処理 ,  結晶化 ,  活性化エネルギー ,  レート方程式 ,  磁化率 ,  飽和磁化 ,  残留磁化 ,  表面エネルギー ,  電気抵抗率 ,  *非晶質合金 ,  ナノ結晶 ,  交流
準シソーラス用語： DCマグネトロンスパッタリング ,  Kissinger式 ,  ガラス基板 ,  ナノ結晶化

分類 (6件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  非晶質金属の構造  (BK04020D) ,  金属の結晶構造  (BK06000V) ,  磁気的性質  (WB02020J) ,  電気的性質  (WB02010Y) ,  その他の物理的・機械的性質  (WB02040F)

タイトルに関連する用語 (3件)： 無定形 ,  薄膜 ,  磁気