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J-GLOBAL ID：201302241628119025   整理番号：13A0393208

Deep reactive ion etching (Deep-RIE) process for fabrication of ordered structural metal oxide thin films by the liquid phase infiltration method

著者 (4件)： MIZUHATA M ,  MIYAKE T ,  NOMOTO Y ,  DEKI S
資料名： MICROELECTRONIC ENGINEERING
巻： 85  号： 2  ページ： 355-364  発行年： 2008年 
JST資料番号： O3877A  ISSN： 0167-9317  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)