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J-GLOBAL ID：201302241789585727   整理番号：13A1126662

EUV平坦場格子分光計と性能測定

EUV Flat Field Grating Spectrometer and Performance Measurement

著者 (6件)： Du Xuewei (National Synchrotron Radiation Lab.,Univ. of Sci. and Technol. of China, Hefei) ,  Shen Yongcai (Inst. of Plasma Physics,Chinese Acad. of Sciences, Hefei) ,  Li Chaoyang (National Synchrotron Radiation Lab.,Univ. of Sci. and Technol. of China, Hefei) ,  An Ning (National Synchrotron Radiation Lab.,Univ. of Sci. and Technol. of China, Hefei) ,  Shi Yuejiang (Inst. of Plasma Physics,Chinese Acad. of Sciences, Hefei) ,  Wang Qiuping (National Synchrotron Radiation Lab.,Univ. of Sci. and Technol. of China, Hefei)
資料名： Guangpuxue yu Guangpu Fenxi  (Guangpuxue yu Guangpu Fenxi)
巻： 32  号： 8  ページ： 2270-2274  発行年： 2012年 
JST資料番号： C2093A  ISSN： 1000-0593  CODEN： GYGFED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 高分解能な極端紫外線(EUV)分光計を,磁気的封入プラズマを診断するために開発した。平坦焦点面を提供するホログラフィック球状不等行間隔凹面格子を,3°の接触入射角度で作動する回折因子として使用する。名目上の溝密度は1200行mm(-1)である。強く冷却された後背照明CCDカメラを,分光検出器として使用し,機械シャッターを,露出時間を制御するために使用する。それは,興味がある種々の波長領域をカバーするための分光焦点面に沿って移動するCCDの510nmの波長領域をカバーする。分光計設計を発表し,それをPenning放電光源によって試験した。波長校正によって,光学システムの実パラメータを計算し,波長精度は0.003nmである。結果から,分光解像度は,設計目標と合致する30μmで開いた20nmの入口隙間の幅で,約0.015nmである。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： 分光計 ,  計測 ,  *極端紫外線 ,  気体放電 ,  CCDカメラ ,  図形 ,  ホログラフィー ,  パラメータ ,  周波数領域 ,  入射角
準シソーラス用語： 性能測定 ,  *EUV ,  Penning放電 ,  グラフィック ,  波長領域 ,  入射角度

分類 (1件)： 分光分析  (CC03012W)

タイトルに関連する用語 (3件)： EUV ,  平坦 ,  性能測定