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J-GLOBAL ID：201302242896548563   整理番号：13A1243397

直流対向ターゲットマグネトロンスパッタリングによって沈積したTiO_2薄膜の光触媒特性に及ぼす全圧とAr/O_2流量比の影響

Effects of Total Pressure and Ar/O_2 Flow Ratios on Photocatalytic Properties of TiO_2 Thin Films Deposited by Direct Current Facing-Target Magnetron Sputtering

著者 (3件)： Chen Peng (School of Environmental Sci. and Engineering, Tianjin Univ., Tianjin) ,  Tan Xin (School of Environmental Sci. and Engineering, Tianjin Univ., Tianjin) ,  Yu Tao (School of Chemical Engineering, Tianjin Univ., Tianjin)
資料名： Wuli Huaxue Xuebao  (Wuli Huaxue Xuebao)
巻： 28  号： 9  ページ： 2162-2168  発行年： 2012年 
JST資料番号： W0391A  ISSN： 1000-6818  CODEN： WHXUEU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多結晶質TiO_2薄膜は,種々のスパッタリング圧とAr/O_2流量比で,直流対向ターゲットマグネトロンスパッタリングによって調製した。全調製膜の平均厚は表面粗さ試験機で測定して200nmであった。スパッタリング圧(p_(tot))が増加するにつれて,調製膜はアナターゼとルチル相の混合から純粋なアナターゼに変化した。調製膜の表面形態に及ぼす異なるスパッタリング圧とAr/O_2流量比の影響を電界放射型走査電子顕微鏡法(FESEM)と原子間力顕微鏡法(AFM)で調査した。膜表面は圧力とAr/O_2流量比の増加に伴って粗くなった。調整したTiO_2薄膜の光触媒活性はUV照射下,初期濃度(容積比)が100x10(-6)のイソプロパノール(IPA)の分解で調査した。IPAをアセトンに酸化し,さらに二酸化炭素に酸化した。Ar/O_2流量比が1:1で2.0Paのときに沈積したTiO_2薄膜は最も高い光触媒活性を示して,反応の間で高い安定度定数を維持した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,  *酸化チタン ,  *薄膜 ,  光触媒 ,  比率 ,  圧力 ,  表面粗さ ,  多結晶
準シソーラス用語： 流量比 ,  全圧 ,  多結晶質

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (8件)： 直流 ,  ターゲット ,  マグネトロンスパッタリング ,  薄膜 ,  触媒特性 ,  全圧 ,  Ar ,  流量比