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J-GLOBAL ID:201302243169176110   整理番号:13A1410167

ナノ球リソグラフィと高出力パルスマグネトロンスパッタリングを組み合わせて作製されたCuナノメッシュとその機能に関する初期研究

Nanomesh of Cu fabricated by combining nanosphere lithography and high power pulsed magnetron sputtering and a preliminary study about its function
著者 (6件):
資料名:
巻: 283  ページ: 100-106  発行年: 2013年10月15日 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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Cuナノメッシュをナノ球リソグラフィ(NSL)と高出力パルスマグネトロンスパッタリング(HiPPMS)を組み合わせて作製した。堆積マスクはTiO2基板上に直径1μmのポリスチレンラテックス球の自己アセンブリによって形成された。その後,スパッタリングを用いてCuナノメッシュ構造を基板上に生成した。その構造を走査型電子顕微鏡(SEM),エネルギー分散X線分光(EDX),X線回折(XRD)で研究した。その結果,ターゲットからの熱放射とスパッタリング粒子の衝撃によって引き起こされたポリスチレンマスクの温度上昇が最終的なナノパターンの品質に影響することがわかった。光触媒分解,血小板接着,人間臍帯動脈平滑筋細胞(HUASMS)培養の試験からCu堆積はTiO2の光触媒活性を助長し,血小板接着に影響し,平滑筋の接着と増殖を抑制できることがわかった。これらの知見は多機能表面構造の研究のための指針として供されることを強調した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (4件):
分類
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固体デバイス製造技術一般  ,  気相めっき  ,  光化学一般  ,  医用素材 

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