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J-GLOBAL ID：201302244176442175   整理番号：13A1240704

YBa_2Cu_3O_(7δ)フィルムの厚によって誘発する内部残留応力および臨界電流の変化

THE VARIATIONS OF INTERNAL RESIDUAL STRESS AND CRITICAL CURRENT INDUCED BY THICKNESS OF YBa_2Cu_3O_(7-δ) FILM

著者 (7件)： Zeng Lin (Res. Center for Superconductors and Applied Technologies, Shanghai) ,  Hao Wenjia (Res. Center for Superconductors and Applied Technologies, Shanghai) ,  Bai Chuanyi (Res. Center for Superconductors and Applied Technologies, Shanghai) ,  Lu Yuming (Res. Center for Superconductors and Applied Technologies, Shanghai) ,  Liu Zhiyong (Res. Center for Superconductors and Applied Technologies, Shanghai) ,  Guo Yanqun (Res. Center for Superconductors and Applied Technologies, Shanghai) ,  Cai Chuanbing (Res. Center for Superconductors and Applied Technologies, Shanghai)
資料名： Diwen Wuli Xuebao  (Diwen Wuli Xuebao)
巻： 34  号： 5  ページ： 321-326  発行年： 2012年 
JST資料番号： C2352A  ISSN： 1000-3258  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 種々の厚(80nm,320nm,1000nmおよび2000nm)を有する一連のYBa_2Cu_3O_(7δ)(YBCO)エピタキシャルフィルムを,パルスレーザ蒸着(PLD)を使用することによって調製して,それらの臨界電流特性および内部残留応力を研究した。フィルムについての内部残留応力および臨界電流密度を,レーザラマンスペクトルおよび磁気測定の方法によって得ることができた。その結果は,より小さい残留応力,より大きなJcを示した。中程度厚(320nmおよび1000nm)を有するサンプルは,それらの順応場の結果から分析されるそれらのより小さい残留応力およびより大きなライナ欠陥密度のために,より大きなJcを持った。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： 残留応力 ,  *臨界電流 ,  膜 ,  Ramanスペクトル ,  レーザ蒸着 ,  エピタクシー ,  臨界電流密度 ,  欠陥密度 ,  磁気測定 ,  流れ特性 ,  パルスレーザ蒸着
準シソーラス用語： フィルム ,  レーザRamanスペクトル ,  エピタキシャル ,  流特性

分類 (1件)： 酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I)

タイトルに関連する用語 (5件)： フィルム ,  厚 ,  誘発 ,  残留応力 ,  臨界電流