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J-GLOBAL ID：201302244490964666   整理番号：13A0072635

電気鍍金したNi膜中の疲れき裂発生に及ぼす共形ナノ被覆の影響の探針法

A method for probing the effects of conformal nanoscale coatings on fatigue crack initiation in electroplated Ni films

著者 (5件)： STRAUB T. (G.W. Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Inst. of Technol., Atlanta, GA, 30332-0405, USA) ,  STRAUB T. (Inst. for Applied Materials (IAM), Karlsruhe Inst. of Technol. (KIT), Kaiserstr. 12, 76131 Karlsruhe, DEU) ,  BAUMERT E.k. (G.W. Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Inst. of Technol., Atlanta, GA, 30332-0405, USA) ,  EBERL C. (Inst. for Applied Materials (IAM), Karlsruhe Inst. of Technol. (KIT), Kaiserstr. 12, 76131 Karlsruhe, DEU) ,  PIERRON O.n. (G.W. Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Inst. of Technol., Atlanta, GA, 30332-0405, USA)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 526  ページ： 176-182  発行年： 2012年12月30日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 金属MEMSの長期信頼度を改善するための頑健なナノ被覆を同定するための実験技術を示した。特に,厚み20μmのNi膜中の疲れき裂発生に及ぼすアルミナナノ被覆の影響を温和環境(30°C,50%RH)と過酷環境(80°C,90%RH)中で調べた。試験後の走査電子顕微鏡観察と共振周波数発展プロットは,被覆が微小亀裂と疲れ押出の形成を阻止しないことを示した。しかし,それらの形成は厚み25nmのアルミナを被覆したNi膜では遅延すると思われる。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： MEMS ,  *被覆 ,  ニッケル ,  *疲れ亀裂 ,  亀裂発生 ,  電気めっき ,  電子顕微鏡観察 ,  薄膜成長 ,  薄膜 ,  *アルミナ
準シソーラス用語： *アルミナ被覆

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電気鍍金 ,  Ni ,  疲れき裂発生 ,  探針