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J-GLOBAL ID：201302247223124003   整理番号：13A1595424

原子間力顕微鏡リソグラフィーを用いたコバルト磁性ナノ構造の作製

Fabrication of Cobalt Magnetic Nanostructures Using Atomic Force Microscope Lithography

著者 (3件)： CHU Haena (Hanyang Univ., Seoul, KOR) ,  YUN Seonghun (Hanyang Univ., Seoul, KOR) ,  LEE Haiwon (Hanyang Univ., Seoul, KOR)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 13  号： 12  ページ： 8055-8058  発行年： 2013年12月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高密度磁気メモリ素子の開発はコンパクトな磁気ディスク素子の開発のために重要である。本稿では,高密度磁気メモリ素子の開発のために中間層としてリソグラフィーを用いてコバルト磁性ナノ構造を作製し,n-トリデシルアミン・塩酸塩(TDA・HCl)自己集合単一層(SAM)を用いて原子間力顕微鏡(AFM)チップ上に局所コバルトナノパターンを形成し,直接AFMリソグラフィーにより非曝露レジストを除去した。この方法によりコバルトイオンの局所電気化学還元を実証した。このリソグラフィープロセスでは,TDA・HClSAMが重要な役割をはたし,非書き込みバックグラウンド上のコバルトイオンの非特異性還元を防止することによりコバルトナノパターンの空間分解能を向上させた。白金被覆ポリジメチルシロキサン(PDMS)スタンプを用いてバルクコバルト構造を作製し,これらのコバルトナノパターンをAFMと磁気力顕微鏡によりキャラクタリゼーションした。

シソーラス用語： *コバルト ,  *ナノ構造 ,  *磁気構造 ,  *原子間力顕微鏡 ,  *リソグラフィー ,  磁気メモリ ,  磁気ディスク ,  フォトレジスト ,  カソード還元 ,  空間分解能 ,  ポリジメチルシロキサン ,  磁気力顕微鏡
準シソーラス用語： コバルトイオン ,  スタンプ ,  ナノパターン ,  塩酸塩 ,  高密度記録 ,  *磁性ナノ構造 ,  自己集合単一層 ,  中間層

分類 (4件)： 金属結晶の磁性  (BM06040T) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G) ,  顕微鏡法  (BK01040E)

物質索引 (1件)： トリデシルアミン

タイトルに関連する用語 (5件)： 原子間力顕微鏡 ,  リソグラフィー ,  コバルト ,  磁性ナノ構造 ,  作製