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J-GLOBAL ID:201302247322774354   整理番号:13A1784504

25周年記念記事 化学蒸着高分子 表面修飾および素子作製の新パラダイム

25th Anniversary Article: CVD Polymers: A New Paradigm for Surface Modification and Device Fabrication
著者 (13件):
資料名:
巻: 25  号: 38  ページ: 5392-5422  発行年: 2013年10月11日 
JST資料番号: W0001A  ISSN: 0935-9648  CODEN: ADVMEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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化学蒸着重合による高分子薄膜の作製について総説した。高分子溶液法に比べて難溶性の高分子の薄膜を作製でき,溶媒による損傷がないことが利点である。(1)逐次成長重合,酸化化学蒸着(oCVD)について解説し,低温蒸着により紙などの基板にも薄膜が作製できることを強調した。グラフト化およびパターン形成,PEDOT蒸着による導電膜,素子の作製例を示した。oCVD半導体,官能性oCVD共重合体について述べた。(2)ラジカル連鎖成長重合(iCVD)について解説し,有機官能基の保持,iCVDによる架橋ネットワーク,勾配組成ヒドロゲル,親水性/疎水性交互構造による蛋白質非汚染性表面,PNIPAM誘導体の臨界溶解温度を利用した熱応答性表面などの表面設計例を説明した。グラフト化および界面接着に関する研究として,トリクロロビニルシラン,無水マレイン酸,tertブチルペルオキシドグラフト化,アミン-エポキシ接着剤を紹介した。光化学的パターン形成との組合せ,非平面基板の被覆における均一性,テンプレート法について述べた。(3)動的に変化するpH応答性iCVD表面およびセンサ応用例を示した。(4)フルオロポリマについて,ペルフルオロ側鎖をもつポリアクリル酸p(PFDA)およびその共重合体,ホットワイヤCVDおよびiCVDによるポリテトラフルオロエチレンを例示した。(5)スケールアップおよび実用化において,化学蒸着法は初期コストは高いが全コストでは低くなり得ることを説明し,ポリパラキシリレンの例を挙げた。(6)化学蒸着重合の研究の歴史を略述した。
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分類 (3件):
分類
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重合反応一般  ,  有機化合物の薄膜  ,  固-気界面一般 
物質索引 (3件):
物質索引
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