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J-GLOBAL ID：201302247601915669   整理番号：13A0633108

フォトリソグラフィーによるグラフェン素子のスケーラブル作製

Scalable fabrication of graphene devices through photolithography

著者 (5件)： SHI Runbo (Key Lab. for the Physics and Chemistry of Nanodevices and Dep. of Electronics, Peking Univ., Beijing 100871, CHN) ,  XU Huilong (Key Lab. for the Physics and Chemistry of Nanodevices and Dep. of Electronics, Peking Univ., Beijing 100871, CHN) ,  CHEN Bingyan (Key Lab. for the Physics and Chemistry of Nanodevices and Dep. of Electronics, Peking Univ., Beijing 100871, CHN) ,  ZHANG Zhiyong (Key Lab. for the Physics and Chemistry of Nanodevices and Dep. of Electronics, Peking Univ., Beijing 100871, CHN) ,  PENG Lian-mao (Key Lab. for the Physics and Chemistry of Nanodevices and Dep. of Electronics, Peking Univ., Beijing 100871, CHN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 102  号： 11  ページ： 113102-113102-5  発行年： 2013年03月18日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *炭素材 ,  *機能素子 ,  製造 ,  *フォトリソグラフィー ,  転写 ,  基板 ,  ケイ素 ,  二酸化ケイ素 ,  *Hall移動度 ,  電圧 ,  *生産 ,  化学蒸着 ,  金属箔 ,  白金 ,  微細加工 ,  パターン形成 ,  移動 ,  *グラフェン
準シソーラス用語： スケーラブル製造 ,  Dirac点電圧 ,  *大規模生産 ,  バブリングトランスファー法

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： フォトリソグラフィー ,  グラフェン素子 ,  作製