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J-GLOBAL ID:201302247740335340   整理番号:13A0565684

MOCVD窒化物反応炉内の温度場に及ぼす熱電対位置の効果

Effect of thermocouple position on temperature field in nitride MOCVD reactor
著者 (9件):
資料名:
巻: 368  ページ: 29-34  発行年: 2013年04月01日 
JST資料番号: B0942A  ISSN: 0022-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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有限要素法を用いることによって,誘導加熱式垂直MOCVD反応炉内の温度場分布をシミュレーションした。実験から得られた熱電対の温度は,シミュレーションから得られた温度と一致した。そして,サセプタとウェーハの温度に及ぼすサセプタ内の熱電対位置の効果を詳細に解析した。熱電対の高さは加熱効率にほとんど効果がなかったが,熱電対によって測定したウェハ温度に強く影響を与えることが分かった。熱電対によって測定したウェーハ温度精度を改善することを目的として,熱電対の高さを最適化し,サセプタ内の熱電対の最適位置を得ることができた。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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薄膜成長技術・装置 
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