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J-GLOBAL ID:201302248132897260   整理番号:13A0250036

噴霧熱分解法で得た三酸化モリブデン薄膜の物理的性質に及ぼす基板温度の効果

Effect of the substrate temperature on the physical properties of molybdenum tri-oxide thin films obtained through the spray pyrolysis technique
著者 (4件):
資料名:
巻: 75  ページ: 184-193  発行年: 2013年01月 
JST資料番号: D0448C  ISSN: 1044-5803  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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多結晶三酸化モリブデン薄膜を噴霧熱分解法によって作製した。ここで,0.1Mのモリブデン酸アンモニウム四水化物を前駆体として用いた。試料を423と673Kの間の温度に保持したコーニングガラス基板上に作製した。試料をマイクロラマン,X線回折,光透過率およびDC電気伝導度を用いて特性評価した。423Kの基板温度で作製した試料には一種のMoO3(H2O)2が認められた。基板温度が上昇すると,水が消失して試料はα-MoO3に結晶化した。基板温度が上昇すると光学ギャップが消滅した。2つの電気的輸送機構が認められた。すなわち,200K以下のホッピング電導と200K以上での真性電導である。MoO3膜の感受性を160と360Kの温度範囲でCOとH2Oに対して解析し,COとH2Oは還元性の特徴を持つという結果を得た。全ての場合に対し,COに対する感受性はH2Oに対するものよりも小さい事が分かった。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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