X線回折からのCoSi<sub>2</sub>超薄膜形成速度論と集合組織

DELATTRE R.; DELATTRE R.; DELATTRE R.; SIMOLA R.; RIVERO C.; SERRADEIL V.; PERRIN-PELLEGRINO C.; PERRIN-PELLEGRINO C.; THOMAS O.; THOMAS O.

文献

J-GLOBAL ID：201302249086468380 整理番号：13A1284062

X線回折からのCoSi₂超薄膜形成速度論と集合組織

CoSi₂ ultra-thin layer formation kinetics and texture from X-ray diffraction

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Thin Solid Films (Thin Solid Films)

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巻： 541 ページ： 17-20 発行年： 2013年08月31日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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この研究において,著者らはコバルト膜厚(50nmから10nm)がCoSi₂薄膜の速度論と集合組織に及ぼす影響を調べた。前の発表で説明した通り,CoSi₂速度論を決定するために,等温焼なまし時にIn-Situ X線回折測定を行った。初期コバルト膜厚減少(50nm,30nm,および10nm)は,特に10nmCo膜に対して,形成速度の減速を誘起した。この現象を説明するために,CoSi₂核形成に基づくモデルを用いた。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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