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J-GLOBAL ID：201302249503063134   整理番号：13A1758355

インラインE-ビームウエハ計測および欠陥検査:イメージに基づく限界寸法計測時代の終わり?欠陥検査の新しい時代

In-line E-beam Wafer Metrology and Defect Inspection: The End of an Era for Image-based Critical Dimensional Metrology? New life for Defect Inspection

著者 (10件)： SOLECKY Eric (IBM Systems and Technol. Group, NY) ,  PATTERSON Oliver D. (IBM Systems and Technol. Group, NY) ,  STAMPER Andrew (IBM Systems and Technol. Group, NY) ,  MCLELLAN Erin (IBM Albany Nanotech, NY) ,  BUENGENER Ralf (GLOBALFOUNDRIES, NY) ,  VAID Alok (GLOBALFOUNDRIES, NY) ,  HARTIG Carsten (GLOBALFOUNDRIES, Dresden, DEU) ,  BUNDAY Benjamin (SEMATECH, NY, USA) ,  ARCEO Abraham (SEMATECH, NY, USA) ,  CEPLER Aron (SEMATECH, NY, USA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8681  号： Pt.1  ページ： 86810D.1-86810D.19  発行年： 2013年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文は半導体工業における電子ビームを用いた計測技術の歴史と将来の展望に関するレビューである。特に,限界寸法走査電子顕微鏡(CD-SEM)による計測法の限界と将来的な展望を議論している。最初にインラインウエハCD-SEMの歴史をレビューしている。次に,CD-SEMのこれからの課題について述べている。最後にインラインE-ビームウエハ計測の将来的展望についての提案を行っている。

シソーラス用語： インライン処理 ,  *電子ビーム ,  走査電子顕微鏡 ,  *LSI【IC】 ,  *欠陥検査 ,  *品質管理 ,  電子散乱 ,  計測
準シソーラス用語： *CD-SEM ,  オンライン計測 ,  ナノ計測 ,  高密度集積回路

分類 (1件)： 固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

タイトルに関連する用語 (7件)： インライン ,  ビーム ,  ウエハ ,  計測 ,  欠陥検査 ,  イメージ ,  限界寸法