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J-GLOBAL ID:201302250878806086   整理番号:13A1439831

Fe+注入シリコンの微細構造とナノメカニカル特性

Microstructure and nanomechanical properties of Fe+ implanted silicon
著者 (6件):
資料名:
巻: 284  ページ: 533-539  発行年: 2013年11月01日 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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シリコンウエハにいろいろなフルエンス(5×1015から2×1017cm-2まで)で鉄イオンを注入し,続いて550°Cから1000°Cの温度でアニーリング処理し,試料のナノメカニカル応答および改質層の微細構造の特徴や特性との関係を評価した。注入後,厚さ200nmと270nmの間の厚さの均質な非晶質層が,表面の滑らかさを損傷したり,表面欠陥を導入することなく形成された。アニーリング後,再結晶化や鉄シリサイドのナノメートルの析出物の形成を改質層の対応する硬度や剛性の変化と共に観察した。これらの結果はシリコンのイオン注入とそれに続く適切な温度のアニーリングが,シリコンの微細構造の精密な制御と,したがってナノメカニカル特性の改善に関してより深く調べる代替のルートとなることを示した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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半導体の放射線による構造と物性の変化  ,  固体の機械的性質一般 
タイトルに関連する用語 (4件):
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