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J-GLOBAL ID:201302251303892254   整理番号:13A1319808

水/エタノール混合溶媒中で撥水加工した白金触媒によるパラクロロアセトフェノンの水素化脱塩素化

Hydrodechlorination of para chloroacetophenone with water-repellent platinum catalysts in a water/ethanol mixed solvent
著者 (4件):
資料名:
巻: 142-143  ページ: 344-353  発行年: 2013年10月 
JST資料番号: W0375A  ISSN: 0926-3373  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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水溶液中の水素化脱塩素(HDC)反応の効率的触媒を確認するために,三種類の型の修飾したPt/SiO2触媒を撥水性有機シリコン試薬,ブチルジメチルクロロシラン(BDMS),ジメチルオクチルクロロシラン(DMOS),及びジメチルオクタデシルクロロシラン(DMODS)を用いて調製した。その触媒を特性化し,水溶液中でパラクロロアセトフェノン(CLAP)へのHDC活性を調べた。Pt/SiO2-DMODSのBET比表面積,メソ多孔性容積,白金表面積,及び白金表面の高酸化種は,修飾後少し減少した。元素分析からDMODS置換基,0.272基/nm2が触媒表面に留まっていた。特に,水素1MPa,373K,60分間,水(35mL)/エタノール(5mL)混合溶媒中において,修飾した触媒上のHDC反応が起きた。この反応のHDC生成物収率の程度の差から,はっきりした事は,触媒のHDC活性がPt/SiO2-DMODS≒Pt/SiO2-DMOS>Pt/SiO2-BDMS>>Pt/SiO2の順序で減少した。更にPt/SiO2-DMODS(10.7min-1)の遷移周波数(TOF)がPt/SiO2 (0.2min-1)の50倍以上になると分かった。.これらの結果によれば触媒活性は撥水性オルガノシラン試薬によりPt/SiO2触媒を表面修飾で著しく向上した。修飾した触媒のHDC高活性は撥水性オルガノシリル置換基により,触媒担体面に疎水部位が生成に由来すると信じられている。従って,水溶液中に基質が多くなるとこの場所と相互作用する活性空間の基質間で沢山の衝突が著しく増える。Pt/SiO2-DMODSのHDC活性における溶媒組成と反応温度の効果も試した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
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貴金属触媒  ,  付加反応,脱離反応  ,  芳香族単環ハロゲン化合物 
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