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J-GLOBAL ID：201302252751104069   整理番号：13A0408356

パルスレーザ堆積によるTi-Ni形状記憶合金薄膜の合成と特性評価

Synthesis and characterization of Ti-Ni shape memory alloy thin films by pulsed laser deposition

著者 (3件)： SHIBAGAKI Kanji (Suzuka National Coll. of Technol., Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Shiroko-cho, 510-0294, Suzuka, Mie ...) ,  KAWANO Kota (Suzuka National Coll. of Technol., Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Shiroko-cho, 510-0294, Suzuka, Mie ...) ,  MORI Atsuto (Suzuka National Coll. of Technol., Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Shiroko-cho, 510-0294, Suzuka, Mie ...)
資料名： Applied Physics. A. Materials Science & Processing  (Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： 110  号： 4  ページ： 805-808  発行年： 2013年03月 
JST資料番号： D0256C  ISSN： 0947-8396  CODEN： APHYCC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 形状記憶合金は様々な産業分野できわめて重要である。しかしながら高品質薄膜合成法は未だ確立されていない。著者らは真空中でのTi-Ni合金ターゲットのパルスレーザ堆積による薄膜合成のための最適条件を調べた。著者らは様々な条件の下で得られた薄膜の表面モルフォロジと化学組成を研究した。真空中でターゲットと基板の間の距離を調節することで適切なTi/Ni比が得られることを見出した。それと並行して,発光分光と飛行時間質量分析によりプラズマプルームを解析した。真空中でのアブレートされた粒子の基本的挙動を考察した。Copyright 2012 Springer-Verlag Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *形状記憶合金 ,  金属薄膜 ,  *レーザ蒸着 ,  形態 ,  *表面構造 ,  *化学組成 ,  *質量分析 ,  プルーム ,  *プラズマ分光 ,  *チタン合金 ,  ニッケル含有合金 ,  *パルスレーザ蒸着
準シソーラス用語： *パルスレーザ堆積 ,  プラズマプルーム ,  表面モルフォロジー

分類 (3件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  その他の金属組織学  (WB01040Y) ,  プラズマ診断  (BJ02090L)

タイトルに関連する用語 (6件)： パルスレーザ堆積 ,  Ti ,  Ni ,  形状記憶 ,  合金薄膜 ,  特性評価