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J-GLOBAL ID：201302252783120147   整理番号：13A1181329

0.1M KF溶液中AZ31マグネシウム合金上におけるフッ化物変換膜の定電位電着プロセス

Potentiostatic deposition process of fluoride conversion film on AZ31 magnesium alloy in 0.1M KF solution

著者 (3件)： WU Liping ,  DONG Junhua ,  KE Wei
資料名： Electrochimica Acta  (Electrochimica Acta)
巻： 105  ページ： 554-559  発行年： 2013年08月30日 
JST資料番号： B0535B  ISSN： 0013-4686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 室温におけるpH7.5の0.1M KF溶液中AZ31Mg合金上,-0.1Vで電着したフッ化物化成膜の被覆プロセスを,その場定電位分極と同時に走査電子顕微鏡(SEM),エネルギー分散型X線分光法(EDS),X線回折(XRD)およびX線光電子分光法(XPS)で研究した。結果は,被覆プロセスは五段階に識別できることを示す。最初の二段階は,電気二重層キャパシタンスの迅速放電とAZ31Mg合金上のFadaic電流密度の遅い増加に起因し,Mg(OH)₂はこれらの段階での腐食生成物中に検出された。非晶質MgF₂膜の析出に相当する第三のプロセスには,第四プロセスでのMg(OH)₂に起因するMgF₂保護の失敗が続いた。最終的に,結晶化KMgF₃の析出がおこる。SEMおよびXPS深さ断面は,析出被覆は二層から成ることを示唆する。内部層は約300nmの厚さでMg(OH)₂とMgF₂で構成され,外部層は厚さがおよそ260nmで,Mg(OH)₂,MgF₂およびKMgF₃から成る。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *マグネシウム合金 ,  *化成皮膜 ,  *電着 ,  定電圧電源 ,  *電解 ,  フッ化カリウム ,  *被覆 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  X線回折 ,  X線光電子分光法 ,  電気二重層 ,  放電 ,  静電容量 ,  水酸化マグネシウム ,  フッ化マグネシウム
準シソーラス用語： *AZ31 ,  *定電位電解

分類 (3件)： 電極過程  (CB07040U) ,  化成処理  (WC08050J) ,  界面化学一般  (CB12010J)

タイトルに関連する用語 (7件)： KF ,  溶液 ,  AZ31マグネシウム合金 ,  フッ化物 ,  電位 ,  電着 ,  プロセス