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J-GLOBAL ID：201302252919337382   整理番号：13A0851331

(111)配向BiFeO₃系マルチフェロイック薄膜の低温形成-スパッタリング成膜中におけるVHFプラズマ照射の効果-

著者 (3件)： 菅原祐輔 (秋田大 院) ,  吉村哲 (秋田大 院) ,  齊藤準 (秋田大 院)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 60th  ページ： ROMBUNNO.28A-D3-8  発行年： 2013年03月11日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ビスマス化合物 ,  *フェライト ,  *強誘電体 ,  誘電体薄膜 ,  低温生成 ,  *バリウム化合物 ,  *強磁性体 ,  優先配向 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  多層膜 ,  プラズマ曝露 ,  残留分極 ,  *磁化特性 ,  *鉄化合物
準シソーラス用語： *VHFプラズマ ,  *マルチフェロイック ,  *鉄酸ビスマス

分類 (4件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B) ,  磁区・磁化過程一般  (BM06111M) ,  磁性材料  (NA04040H)

タイトルに関連する用語 (7件)： 配向 ,  BiFeO3 ,  マルチフェロイック ,  薄膜 ,  低温形成 ,  スパッタリング成膜 ,  VHFプラズマ