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J-GLOBAL ID：201302253119531187   整理番号：13A1197694

活性炭と組み合わせたパルスコロナ放電プラズマによる水溶液からカドミウムイオンとフェノールの同時除去

Simultaneous removal of cadmium ions and phenol from water solution by pulsed corona discharge plasma combined with activated carbon

著者 (8件)： QU Guangzhou ,  LIANG Dongli ,  QU Dong ,  HUANG Yimei ,  LIU Ting ,  MAO Hui ,  JI Puhui ,  HUANG Donglin
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 228  ページ： 28-35  発行年： 2013年07月15日 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 粒状活性炭と組み合わせたパルスコロナ放電プラズマ(PCDP/GAC)を用いて廃水中のカドミウムイオンとフェノールの同時除去を行った。実験結果はPCDP/GAC処理システムから60分で69.0%のCd²⁺と87.3%のフェノールが除去されたことを示した。この除去効率はGAC吸着システムよりそれぞれ27.2%,及び11.4%高く,PCDP処理システムよりそれぞれ65.8%と60.6%高かった。パルス電圧の増加はCd²⁺とフェノールの除去を増加した。Cd²⁺とフェノールの除去はフイードガスに酸素を使用した場合に最高であった。同じ入力で初期フェノール濃度を増加するとCd²⁺とフェノールの除去効率は減少した。SEMとEDXはPCDP/GACシステム中の放電処理によりGAC上に生成したCd²⁺の量はGAC吸着システム中のそれより高かったことを示した。FTIRはGAC上のO-H,C-H,及びC=C結合が切断され,一方Ar-O-CとC=O基がPCDP処理過程で増加したことを示した。Cd²⁺とフェノールの除去メカニズムについて提案した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *活性炭 ,  組合せ ,  パルス放電 ,  コロナ放電 ,  プラズマ ,  水溶液 ,  カドミウム化合物 ,  金属イオン ,  除去 ,  同時性 ,  効率 ,  吸着 ,  酸素 ,  *廃水処理 ,  プラズマ応用 ,  活性炭処理 ,  フェノール類
準シソーラス用語： *カドミウムイオン ,  除去効率 ,  同時除去 ,  *放電プラズマ ,  粒状活性炭

分類 (3件)： 吸着剤  (YB03000W) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  下水,廃水の化学的処理  (SC03050W)

物質索引 (1件)： フェノール

タイトルに関連する用語 (8件)： 活性炭 ,  パルス ,  コロナ ,  放電プラズマ ,  水溶液 ,  カドミウムイオン ,  フェノール ,  同時除去