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J-GLOBAL ID:201302253366610871   整理番号:13A0960734

α-トコフェロールで安定化しγ線殺菌,貯蔵エージングしたUHMWPEにおける残存ラジカルの評価

Assessment of residual radicals in γ-sterilized shelf-aged UHMWPE stabilized with α-tocopherol
著者 (8件):
資料名:
巻: 98  号:ページ: 1256-1263  発行年: 2013年06月 
JST資料番号: E0404B  ISSN: 0141-3910  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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UHMWPE中の残存フリーラジカル(炭素中心ポリエニルラジカル(R1)-CH[ CH=CH]m-,m>3,および,酸素中心ジエニルまたはトリエニルラジカル(R2))に及ぼす抗酸化剤α-トコフェロール(α-T)ブレンドの効果を調べた。α-T濃度は5000,10000,100000,150000ppmとし,ブレンドは室温(23°C)でγ線照射(~30kGy)し,空気中5年間光照射下に貯蔵エージングした。ESRスピン飽和法から,α-Tは照射が窒素中でなく空気中で行われたときの残存ラジカル減少により有効と判明した。α-T濃度が10000ppm以下のとき残存ラジカルは減少したが,100000~150000ppmでは予想外に増加した。平均クリスタリットサイズはL(110)で40nmから65nmに,L(200)で28nmから42nmに増加し,残存ラジカル量平均はクリスタリットサイズに強く依存し,%結晶度とは逆の傾向を示した。Ramanスペクトルから,R2ラジカルはUHMWPEの相間領域に存在し,存在量はUHMWPEの相間領域%に直接比例することを発見した。UHMWPE/α-Tブレンドの酸化プロセスへの長期間抵抗性を考慮するときこの知見が関係しよう。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (4件):
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ポリオレフィン  ,  酸化防止剤,安定剤  ,  抵抗性  ,  放射線高分子化学 
物質索引 (1件):
物質索引
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