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J-GLOBAL ID：201302253612745595   整理番号：13A0803715

ナノ構造異方性による異方性電気的双安定性

Nanostructural Anisotropy Underlies Anisotropic Electrical Bistability

著者 (4件)： PILLAI Pramod P. (Northwestern Univ., IL, USA) ,  PACLAWSKI Krzysztof (Northwestern Univ., IL, USA) ,  KIM Jiwon (Northwestern Univ., IL, USA) ,  GRZYBOWSKI Bartosz A. (Northwestern Univ., IL, USA)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 25  号： 11  ページ： 1623-1628  発行年： 2013年03月20日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アノード酸化アルミニウムをテンプレートとして金ナノロッドを電着成長させ,テンプレートを除去して金ナノロッドアレイを作製し,斜め蒸着によりナノロッド片面にクロム層を形成した。ポリジメチルシロキサン(PDMS)層で被覆後銀電極パターンを蒸着した。透過型電子顕微鏡,透過型走査電子顕微鏡,エネルギー分散X線分光分析,電子エネルギー損失分光法,すれすれ入射X線回折によりキャラクタリゼーションを行った。電流電圧特性を測定した。閾電圧,ヒステリシス曲線は顕著な異方性を示した。

シソーラス用語： *ナノ構造 ,  *異方性 ,  *双安定性 ,  酸化アルミニウム ,  鋳型反応 ,  金 ,  *配列 ,  電着 ,  *真空蒸着 ,  *クロム ,  ポリジメチルシロキサン ,  電極 ,  パターン形成 ,  蒸着 ,  透過型電子顕微鏡 ,  透過型走査電子顕微鏡 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  電子エネルギー損失分光法 ,  X線回折 ,  電流電圧特性 ,  ヒステリシス ,  電圧
準シソーラス用語： アノード酸化アルミニウム ,  すれすれ入射X線回折 ,  テンプレート【鋳型反応】 ,  *ナノロッドアレイ ,  銀電極 ,  *斜め蒸着 ,  閾電圧

分類 (2件)： フィルタ一般  (NC04021I) ,  固-固界面  (CB12060M)

タイトルに関連する用語 (3件)： 構造異方性 ,  異方性 ,  双安定性