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J-GLOBAL ID：201302253683436054   整理番号：13A1872250

下水処理水に混入する有機物によるヒドロキシルラジカルの光化学的形成反応 組成の影響

Photochemical Formation of Hydroxyl Radical from Effluent Organic Matter: Role of Composition

著者 (3件)： LEE Eunkyung (Univ. Colorado, Colorado, USA) ,  GLOVER Caitlin M. (Univ. Colorado, Colorado, USA) ,  ROSARIO-ORTIZ Fernando L. (Univ. Colorado, Colorado, USA)
資料名： Environmental Science & Technology  (Environmental Science & Technology)
巻： 47  号： 21  ページ： 12073-12080  発行年： 2013年11月05日 
JST資料番号： B0839A  ISSN： 0013-936X  CODEN： ESTHA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 有機汚染物質の光分解反応は直接と間接の分解機構で進行し,ヒドロキシルラジカルの光化学的形成は混合物の化学特性に依存する。2か所の下水処理施設A,Bで処理水に混入する有機物(ヒューミン)を採取し,ヒドロキシルラジカル形成反応の見掛け量子収量や最高蛍光量子収量を実測した。下水処理施設A/Bで採取したバルク水はヒドロキシルラジカル形成反応の速度が4.8x10^-10/7.6x10^-11M/sであった。有機物の見掛け分子量が低減するとヒドロキシルラジカル形成反応の見掛け量子収量が増加した。ヒドロキシルラジカル形成反応の見掛け量子収量と最高蛍光量子収量は線形関係があり,有機物の光化学反応は各種の光物理プロセスで進行すると示唆した。下水処理水に混入する有機物によるヒドロキシルラジカル形成反応は,微量有機物の光化学分解や無機化に影響するため詳細なプロセス解析が必須である。

シソーラス用語： 水質汚濁物質 ,  *下水処理施設 ,  下水処理水 ,  *ヒューミン ,  光分解 ,  光化学反応 ,  *ヒドロキシルラジカル ,  化学組成 ,  量子収量 ,  プロセス解析 ,  分子量分布 ,  サイズ排除クロマトグラフィー ,  無機化 ,  反応速度 ,  動力学 ,  *光化学 ,  接触分解 ,  ラジカル反応
準シソーラス用語： 蛍光量子収量

分類 (4件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W) ,  下水・廃水処理施設  (SC03020P) ,  光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A) ,  均一系触媒反応  (CB06090Q)

タイトルに関連する用語 (6件)： 下水処理水 ,  混入 ,  有機物 ,  ヒドロキシルラジカル ,  光化学 ,  組成