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J-GLOBAL ID：201302253768978034   整理番号：13A0905390

シリカナノ粒子上でのPluronicブロック共重合体の吸着

Adsorption of Pluronic block copolymers on silica nanoparticles

著者 (4件)： SARKAR Biswajit (Dep. of Chemical and Biological Engineering, Univ. at Buffalo, The State Univ. of New York (SUNY), Buffalo, NY ...) ,  VENUGOPAL Vinithra (Dep. of Chemical and Biological Engineering, Univ. at Buffalo, The State Univ. of New York (SUNY), Buffalo, NY ...) ,  TSIANOU Marina (Dep. of Chemical and Biological Engineering, Univ. at Buffalo, The State Univ. of New York (SUNY), Buffalo, NY ...) ,  ALEXANDRIDIS Paschalis (Dep. of Chemical and Biological Engineering, Univ. at Buffalo, The State Univ. of New York (SUNY), Buffalo, NY ...)
資料名： Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects  (Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects)
巻： 422  ページ： 155-164  発行年： 2013年04月05日 
JST資料番号： A0539B  ISSN： 0927-7757  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水中に分散したシリカナノ粒子上での典型的なポリ(エチレンオキシド)-ポリ(プロピレンオキシド)-ポリ(エチレンオキシド)(PEO-PPO-PEO)ブロック共重合体の組織化を調べた。Pluronic P105(EO₃₆PO₅₆EO₃₆)はプロトン化シリカ上に吸着し,一定のバルク高分子濃度(すなわち臨界表面ミセル濃度(csmc)と呼ばれ,淡水中のPluronic P105の臨界ミセル濃度(cmc)より低い)以上で疎水性ドメインを形成し始めた。csmcは粒子濃度の増加および粒子サイズの減少につれて,減少した。csmc以下でプロトン化シリカナノ粒子上での上記ブロック共重合体吸着は,PEOホモ重合体の吸着と同様であった。吸着層厚,吸着高分子量および疎水性ドメインの存在によって示されたように,csmc以上でブロック共重合体は,プロトン化シリカナノ粒子上でミセル様凝集体を生成した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *高分子界面活性剤 ,  *非イオン界面活性剤 ,  *トリブロック共重合体 ,  *ナノ粒子 ,  *吸着 ,  ミセル形成 ,  ポリエチレンオキシド ,  ポリプロピレンオキシド ,  小角X線散乱 ,  臨界ミセル濃度 ,  凝集体
準シソーラス用語： *Pluronic ,  *シリカナノ粒子 ,  ミセル化

分類 (2件)： 高分子溶液の物理的性質  (CG02013S) ,  コロイド化学一般  (CB11010C)

タイトルに関連する用語 (4件)： シリカナノ粒子 ,  Pluronic ,  ブロック共重合体 ,  吸着