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J-GLOBAL ID：201302253838615392   整理番号：13A1181608

Bi_0.85Pr_0.15Fe_0.9Co_0.1O₃薄膜のマルチフェロイック特性

Multiferroic properties of Bi_0.85Pr_0.15Fe_0.9Co_0.1O₃ thin films

著者 (4件)： YANG Haibo ,  LIU Miao ,  LIN Ying ,  YANG Yanyan
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 106  ページ： 263-265  発行年： 2013年09月01日 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 無線周波数マグネトロンスパッタリングでBi_0.85Pr_0.15Fe_0.9Co_0.1O₃(BPFCO)薄膜を,緩衝層としてSrRuO₃を使用して,Pt(111)/TiO₂/SiO₂/Si(100)基材に析出した。未焼鈍の薄膜の分極測定では81μC/cm²の大きい残留分極の明確な二重ヒステリシス・ループが観察された。しかしながら,純酸素雰囲気下で焼鈍したBPFCO薄膜中では二重ヒステリシス・ループ現象は抑制された。二重ヒステリシス・ループの出現のメカニズムには酸素空孔に関連した欠陥双極子が関係していることが判明した。磁気特性の解析で未焼鈍のBPFCO薄膜中の二重ヒステリシス・ループの特性に関する更なる証拠が観察された。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化物 ,  *ビスマス化合物 ,  *プラセオジム化合物 ,  *鉄化合物 ,  *コバルト化合物 ,  *薄膜 ,  基板 ,  白金 ,  酸化チタン ,  酸化ケイ素 ,  ケイ素 ,  バッファ層 ,  ストロンチウム化合物 ,  ルテニウム化合物 ,  酸素酸塩 ,  マグネトロンスパッタリング ,  焼なまし ,  残留分極 ,  曲線 ,  ヒステリシス ,  空格子点 ,  電気双極子 ,  複合欠陥 ,  *強誘電体 ,  *磁性体 ,  スパッタ蒸着
準シソーラス用語： BPFCO ,  アニール ,  ヒステリシスループ ,  *マルチフェロイック ,  ルテニウム酸ストロンチウム ,  欠陥双極子 ,  酸化物薄膜 ,  酸素空孔

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B) ,  酸化物結晶の磁性  (BM06050E)

タイトルに関連する用語 (2件)： 薄膜 ,  マルチフェロイック