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J-GLOBAL ID：201302255325056846   整理番号：13A0150920

低応力でのナノ結晶ニッケルピラーのナノスケール室温クリープ

Nanoscale room temperature creep of nanocrystalline nickel pillars at low stresses

著者 (7件)： CHOI In-chul (Div. of Materials Sci. and Engineering, Hanyang Univ., Seoul 133-791, KOR) ,  KIM Yong-jae (Div. of Materials Sci. and Engineering, Hanyang Univ., Seoul 133-791, KOR) ,  SEOK Moo-young (Div. of Materials Sci. and Engineering, Hanyang Univ., Seoul 133-791, KOR) ,  YOO Byung-gil (Div. of Materials Sci. and Engineering, Hanyang Univ., Seoul 133-791, KOR) ,  KIM Ju-young (School of Mechanical and Advanced Materials Engineering, UNIST, Ulsan 689-798, KOR) ,  WANG Yinmin (Physical and Life Sciences Directorate, Lawrence Livermore National Lab., Livermore, CA 94550, USA) ,  JANG Jae-il (Div. of Materials Sci. and Engineering, Hanyang Univ., Seoul 133-791, KOR)
資料名： International Journal of Plasticity  (International Journal of Plasticity)
巻： 41  ページ： 53-64  発行年： 2013年02月 
JST資料番号： D0468C  ISSN： 0749-6419  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低応力および室温でのナノ結晶(nc)Niのナノスケール時間依存塑性変形(クリープ)挙動を,ナノ-/マイクロ-ピラー(直径600,1000,および2000nm)に対して行った単軸クリープ実験を通して,系統的に研究した。クリープは確かに大気温度で起こり,ピラーの公称降伏強度より低い応力で(200秒の荷重保持に対して)~2×10^-4-9×10^-3のクリープひずみを示した。より小さいピラーでは,負荷した応力で,さらに高い全クリープひずみおよびひずみ速度が生じた。これは,自由表面の寄与が増加したためであると考えられる。応力指数および活性化体積の推測から,低応力下でのナノスケールクリープ事象は,自由表面アシスト粒界拡散および粒界すべりのような拡散律速のメカニズムによって支配されていることが示唆された。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 応力 ,  ナノ結晶 ,  *ナノ構造 ,  *柱 ,  *ニッケル ,  微細構造 ,  *クリープ ,  降伏強さ ,  歪 ,  歪速度 ,  自由表面 ,  規模 ,  活性化体積 ,  粒界滑り ,  粒界拡散 ,  拡散律速 ,  応力指数 ,  時間依存性 ,  塑性 ,  微視力学
準シソーラス用語： クリープ歪 ,  ナノスケール ,  *ナノピラー ,  マイクロピラー

分類 (2件)： 機械的性質  (WB02030U) ,  金属材料  (HC06020Z)

タイトルに関連する用語 (6件)： 応力 ,  ナノ結晶ニッケル ,  ピラー ,  ナノスケール ,  室温 ,  クリープ