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J-GLOBAL ID：201302255549909828   整理番号：13A1230422

キラル強磁性磁壁の電流誘起動力学

Current-driven dynamics of chiral ferromagnetic domain walls

著者 (5件)： EMORI Satoru (Massachusetts Inst., Technol., Massachusetts, USA) ,  BAUER Uwe (Massachusetts Inst., Technol., Massachusetts, USA) ,  AHN Sung-Min (Massachusetts Inst., Technol., Massachusetts, USA) ,  MARTINEZ Eduardo (Universidad de Salamanca, Salamanca, ESP) ,  BEACH Geoffrey S. D. (Massachusetts Inst., Technol., Massachusetts, USA)
資料名： Nature Materials  (Nature Materials)
巻： 12  号： 7  ページ： 611-616  発行年： 2013年07月 
JST資料番号： W1364A  ISSN： 1476-1122  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 発展段階のスピントロニクスメモリなどの動作の基礎と電流制御キラル磁壁(DW)について,重金属基層を除いて名目上同一の面外磁化したTa/Pt/Co₈₀Fe₂₀/MgO/Ta及びTa/Co₈₀Fe₂₀/MgO/Taスタック(Pt/CF/MO及びTa/CF/MO)電流誘起トルク及びDW動力学を特性解析した(スピンHall角は大きくかつ異符号)。なお,スタックはSi/SiO₂基板表面にマグネトロスパッタリングで蒸着した。スピンHall効果によるスピントルクがPt/CF/MO及びTa/CF/MO中でDWを反対方向に駆動し,このことはDWが左手系キラリティーをもつNeel配置であると仮定することによってのみ説明できることを示した。本研究は異論のある実験結果の起源を解明しまたスピントロニクス素子の接続領域設計への道を強調するものであると結言した。

シソーラス用語： *磁壁 ,  強磁性 ,  カイラル対称性 ,  *動力学 ,  電流発生 ,  白金 ,  タンタル ,  *金属間化合物 ,  コバルト合金 ,  鉄含有合金 ,  酸化マグネシウム ,  マグネトロンスパッタリング ,  Hall効果 ,  トルク ,  依存性 ,  Neel壁 ,  システム ,  スピントロニクス ,  記憶装置
準シソーラス用語： Neel配置 ,  *キラル強磁性磁壁 ,  *スピンHall効果 ,  スピントルク ,  *左手系 ,  磁場依存性 ,  電流誘起

分類 (3件)： 金属結晶の磁性  (BM06040T) ,  磁区・磁化過程一般  (BM06111M) ,  金属結晶の電子伝導  (BM03033M)

タイトルに関連する用語 (5件)： キラル ,  強磁性 ,  磁壁 ,  電流誘起 ,  動力学