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J-GLOBAL ID：201302256129195125   整理番号：13A1485955

窒化アルミニウム上のダイヤモンド結晶の核生成と化学蒸着成長: 表面末端と極性の役割

Nucleation and Chemical Vapor Deposition Growth of Polycrystalline Diamond on Aluminum Nitride: Role of Surface Termination and Polarity

著者 (8件)： CERVENKA Jiri (Univ. Melbourne, VIC, AUS) ,  LAU Desmond W. M. (Univ. Melbourne, VIC, AUS) ,  DONTSCHUK Nikolai (Univ. Melbourne, VIC, AUS) ,  SHIMONI Olga (Univ. Melbourne, VIC, AUS) ,  SILVESTRI Leonardo (Univ. New South Wales, NSW, AUS) ,  LADOUCEUR Francois (Univ. New South Wales, NSW, AUS) ,  DUVALL Steven G. (Silanna Semiconductor Pty Ltd., NSW, AUS) ,  PRAWER Steven (Univ. Melbourne, VIC, AUS)
資料名： Crystal Growth & Design  (Crystal Growth & Design)
巻： 13  号： 8  ページ： 3490-3497  発行年： 2013年08月 
JST資料番号： W1323A  ISSN： 1528-7483  CODEN： CGDEFU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 核生成密度,粒子サイズ,および表面配向を前レベルで制御して,AlN上にダイヤモンド結晶を成長させる方法を研究した。走査型電子顕微鏡(SEM),ラマン分光法,X線回折(XRD),高分解能透過型電子顕微鏡(HRTEM),および電子エネルギー損失分光法(EELS)によって,このダイヤモンド結晶と異なる極性,半極性,および非極性AlN表面間の界面形成を研究した結果,ダイヤモンド(111)/AlN(0001)界面間の関係が熱力学的に最も安定であることがわかった。非極性と半極性のAlN面はダイヤモンドの化学蒸着における水素プラズマ処理に対して強い耐性を示し,高品質のダイヤモンド/AlNヘテロ界面結晶になった。これらの結果から,非極性と半極性のAlN面は高品質のダイヤモンド/AlNヘテロ界面結晶の成長に適していることがわかった。

シソーラス用語： *窒化アルミニウム ,  基板 ,  *ダイヤモンド ,  *化学蒸着 ,  *核形成 ,  *表面構造 ,  極性 ,  結晶粒度 ,  結晶方位 ,  電子顕微鏡観察 ,  Ramanスペクトル ,  X線回折 ,  電子エネルギー損失分光法 ,  ファセット ,  安定性 ,  プラズマ ,  耐性
準シソーラス用語： 水素プラズマ

分類 (2件)： 固-固界面  (CB12060M) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (7件)： 窒化アルミニウム ,  ダイヤモンド結晶 ,  核生成 ,  化学蒸着 ,  成長 ,  極性 ,  役割