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J-GLOBAL ID:201302257828828318   整理番号:13A0239171

炭化ケイ素ウエハの簡易な欠陥検出法の開発

著者 (7件):
資料名:
巻: 31  号:ページ: 12-14  発行年: 2013年01月25日 
JST資料番号: L0506A  ISSN: 0911-5269  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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炭化ケイ素(SiC),特に4H-SiCは高耐圧・低損失の次世代電子パワーデバイス材料に注目されている。SiC単結晶基板やエピ膜には多くの結晶欠陥が内在しており,種々の欠陥を検出・分類できる技術が不可欠である。本稿では,p型からn+型SiC単結晶・エピ膜における転位を簡易に検出・判別するエッチング手法(KNエッチング:KOH+Na2O2)の開発について解説した。1)KOHエッチングとKNエッチングの比較:Na2O2の添加により酸化反応が促進し,異方性エッチングが支配的になる,2)KNエッチングで形成した代表的なピットとそれらの分類:3種類の転位,六角形ピットサイズ分布,3)オフ角度の影響:オフ角度8°以内で有効。
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分類 (1件):
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固体デバイス材料 
引用文献 (1件):
  • 1) Y. Gao, Z. Zhang et al. : Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 815, p139 (2004)
タイトルに関連する用語 (4件):
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