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J-GLOBAL ID:201302258001844867   整理番号:12A1809995

二層三波長反射防止コーティングのゾル-ゲル作製

Sol-gel preparation of double-layer tri-wavelength antireflective coating
著者 (5件):
資料名:
巻: 64  号:ページ: 276-281  発行年: 2012年11月 
JST資料番号: W0812A  ISSN: 0928-0707  CODEN: JSGTEC  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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351,527及び1053nmで同時に効果的な二層三波長反射防止(AR)コーティングを設計し,ゾル-ゲル法で作製した。下層と上層の屈折率と膜厚は各々1.27と113nm,1.17と245nmであった。屈折率1.27の下層を酸触媒と塩基触媒改質シリカゾルの混合物から作製し,屈折率1.17の上層をポリプロピレンオキサイド改質シリカゾルから作製した。ゾルへのポリプロピレンオキシドの添加はARコーティングの屈折率を低下させ,疎水性を増加させることを明らかにした。得られた三波長ARコーティングは351,527及び1053nmで各々99.7,99.1及び98.0%の非常に高い透過率を示した。Copyright 2012 Springer Science+Business Media, LLC Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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薄膜一般  ,  光物性一般 
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