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J-GLOBAL ID：201302258419847021   整理番号：13A0983722

分子内クロス脱水素カップリングによる還元酸化グラフェンの欠陥修復

Defect healing of reduced graphene oxide via intramolecular cross-dehydrogenative coupling

著者 (12件)： PARK Ok-Kyung (Korea Inst. of Sci. and Technol. (KIST), Jeolabuk-do, KOR) ,  PARK Ok-Kyung (Chonbuk National Univ., Jeolabuk-do, KOR) ,  CHOI Yong-Mun (Korea Inst. of Sci. and Technol. (KIST), Jeolabuk-do, KOR) ,  CHOI Yong-Mun (Jeonju Univ., Jeolabuk-do, KOR) ,  HWANG Jun Yeon (Korea Inst. of Sci. and Technol. (KIST), Jeolabuk-do, KOR) ,  YANG Cheol-Min (Korea Inst. of Sci. and Technol. (KIST), Jeolabuk-do, KOR) ,  KIM Tea-Wook (Korea Inst. of Sci. and Technol. (KIST), Jeolabuk-do, KOR) ,  YOU Nam-Ho (Korea Inst. of Sci. and Technol. (KIST), Jeolabuk-do, KOR) ,  KOO Hye Young (Korea Inst. of Sci. and Technol. (KIST), Jeolabuk-do, KOR) ,  LEE Joong Hee (Chonbuk National Univ., Jeolabuk-do, KOR) ,  KU Bon-Cheol (Korea Inst. of Sci. and Technol. (KIST), Jeolabuk-do, KOR) ,  GOH Munju (Korea Inst. of Sci. and Technol. (KIST), Jeolabuk-do, KOR)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 24  号： 18  ページ： 185604,1-7  発行年： 2013年05月10日 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 還元した酸化グラフェン(RGO)の欠陥を,FeCl₃との室温での分子内クロス脱水素カップリング(ICDC)を通して化学的に修復した。ICDC後のRGOのDバンドに対するGバンドのRaman強度比は0.77から1.64に上昇した。X線光電子分光測定では,RGOのC-C結合からのピーク強度に対するC=C結合からのピーク強度の比は2.88から3.79に増加した。ICDC反応後のRGOの電気伝導率は71Scm^-1で,反応前のRGOのそれの14倍に上昇した。

シソーラス用語： *脱水素 ,  脱水素反応 ,  酸化物 ,  *炭素材 ,  グラファイト ,  Ramanスペクトル ,  電子顕微鏡観察 ,  X線光電子スペクトル ,  熱重量分析 ,  電気伝導率 ,  *修理 ,  *グラフェン
準シソーラス用語： *欠陥修復 ,  酸化グラフェン

分類 (1件)： その他の無機化合物の格子欠陥  (BK12050B)

タイトルに関連する用語 (4件)： 脱水素 ,  カップリング ,  還元酸化グラフェン ,  欠陥修復