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J-GLOBAL ID：201302258963582104   整理番号：13A0009113

脱イオン水浸出と熱アニーリング処理を用いた原子的に平坦なSrTiO₃表面の作製

Preparation of atomically flat SrTiO₃ surfaces using a deionized-water leaching and thermal annealing procedure

著者 (5件)： CONNELL J. G. (Dep. of Physics and Astronomy, Univ. of Kentucky, Lexington, Kentucky 40506, USA) ,  ISAAC B. J. (Dep. of Physics and Astronomy, Univ. of Kentucky, Lexington, Kentucky 40506, USA) ,  EKANAYAKE G. B. (Dep. of Physics and Astronomy, Univ. of Kentucky, Lexington, Kentucky 40506, USA) ,  STRACHAN D. R. (Dep. of Physics and Astronomy, Univ. of Kentucky, Lexington, Kentucky 40506, USA) ,  SEO S. S. A. (Dep. of Physics and Astronomy, Univ. of Kentucky, Lexington, Kentucky 40506, USA)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 101  号： 25  ページ： 251607-251607-3  発行年： 2012年12月17日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 脱イオン水浸出と熱アニーリング法は原子的に平坦で単一終端した単結晶SrTiO₃基板表面の作製に有効であることを報告する。熱アニーリングと脱イオン水浸出の二段階の手順後,原子間力顕微鏡で測定した形態は粗い表面からステップ-テラス表面構造へ基板の発展を示した。横力顕微鏡観察から原子的に平坦な表面が単一終端したことを確認した。また,この方法を用いてSrTiO₃表面に偏析した過剰の酸化ストロンチウムや水酸化物複合体を除去できた。この酸性エッチ液を用いない方法は原子的に整列したSrTiO₃基板の作製を容易にし,複合酸化物界面の二次元物理学の研究を促進する。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 脱イオン水 ,  *熱処理 ,  *チタン酸ストロンチウム ,  強誘電体 ,  *形態 ,  電子顕微鏡観察 ,  表面テラス ,  表面ステップ ,  基板
準シソーラス用語： *熱アニーリング ,  *表面形態

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 脱イオン水 ,  浸出 ,  熱アニーリング ,  原子 ,  作製