文献

J-GLOBAL ID：201302259061501922   整理番号：13A1792579

セラミック,半導体,および炭素ナノ構造体の溶融塩合成

Salt melt synthesis of ceramics, semiconductors and carbon nanostructures

著者 (3件)： LIU Xiaofeng (Max-Planck Inst. of Colloids and Interfaces, Postdam, DEU) ,  FECHLER Nina (Max-Planck Inst. of Colloids and Interfaces, Postdam, DEU) ,  ANTONIETTI Markus (Max-Planck Inst. of Colloids and Interfaces, Postdam, DEU)
資料名： Chemical Society Reviews  (Chemical Society Reviews)
巻： 42  号： 21  ページ： 8237-8265  発行年： 2013年11月07日 
JST資料番号： D0479B  ISSN： 0306-0012  CODEN： CSRVBR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 有機溶媒を使う溶液合成では温度は通常200°C以下(最高350°C以下)に制約されるが,溶融無機塩を媒質にする溶融塩反応では操作温度範囲が>1000°Cに拡大される。酸化物セラミック粉末(二成分酸化物:α-Al₂O₃,SnO₂,TiO₂),ヒドロキシド,リン酸塩,多成分酸化物:ペロブスカイト(BaTiO₃),リチウム電池材料(LiCoO₂),非酸化物(ホウ素化物,カーバイド,シリサイド,カルコゲニド),半導体(Si,Ge,SiCナノ粒子;BN結晶および薄層,g-C₃N₄),炭素ナノ構造体(イオン液体の炭素化,グルコースからグラフェンへの変換,など炭素材料の化学構造制御,カーボンナノチューブやグラファイト/塩インタカレーション)などを総説した。

シソーラス用語： *化学合成 ,  *セラミック ,  *半導体 ,  クラスタ分子 ,  *ナノ構造 ,  制御 ,  金属酸化物 ,  炭化物 ,  ケイ化物 ,  ホウ化物
準シソーラス用語： カーバイド ,  シリサイド ,  構造制御 ,  *炭素ナノ構造体 ,  *溶融塩合成

分類 (3件)： 塩  (CD01050V) ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  (BK07020Y) ,  結晶成長技術・装置  (BK13020B)

タイトルに関連する用語 (3件)： セラミック ,  炭素ナノ構造体 ,  溶融塩合成