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J-GLOBAL ID：201302259069192961   整理番号：13A0966858

レーザ支援されたMOCVDによる多層でコーティングされたハステロイC276テープ上へのYBa₂Cu₃O_7-δ超伝導体膜の高速成長

High-speed growth of YBa₂Cu₃O_7-δ superconducting films on multilayer-coated Hastelloy C276 tape by laser-assisted MOCVD

著者 (6件)： ZHAO Pei (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  ITO Akihiko (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KATO Takeharu (Japan Fine Ceramic Centre, Nagoya, JPN) ,  YOKOE Daisaku (Japan Fine Ceramic Centre, Nagoya, JPN) ,  HIRAYAMA Tsukasa (Japan Fine Ceramic Centre, Nagoya, JPN) ,  GOTO Takashi (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： Superconductor Science and Technology  (Superconductor Science and Technology)
巻： 26  号： 5  ページ： 055020,1-8  発行年： 2013年05月 
JST資料番号： T0607A  ISSN： 0953-2048  CODEN： SUSTEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多層(CeO₂/LaMnO₃/MgO/Gd₂Zr₂O₇)でコーティングされたハステロイC276テープ上への,YBa₂Cu₃O_7-δYBCO)超伝導体膜の,レーザ支援有機金属化学蒸着を用いた(レーザ支援されたMOCVD)高速エピタキシャル成長。YBCO膜の優先配向は,析出温度が769から913Kへ増加するのに応じて,a軸からc軸に変わる。c軸配向のYBCO膜は,55μmh^-1の高い成長レートにおいても,90Kの高い臨界温度および0.5MAcm^-2の高い臨界電流密度を示した。

シソーラス用語： MOCVD ,  光CVD ,  *被覆 ,  *ハステロイ ,  テープ ,  *導体 ,  気相成長 ,  優先配向 ,  臨界温度 ,  臨界電流密度
準シソーラス用語： *YBCO超電導テープ線材 ,  レーザMOCVD ,  気相エピタキシャル成長 ,  多層コーティング

分類 (2件)： 酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I) ,  超伝導材料  (BM04041W)

タイトルに関連する用語 (8件)： レーザ ,  支援 ,  MOCVD ,  多層 ,  コーティング ,  ハステロイC276 ,  テープ ,  成長