文献

J-GLOBAL ID：201302260335706737   整理番号：13A0652943

水素末端ケイ素表面上の金属ナノ粒子の無電解パターン化集合体の光電気触媒への応用

Electroless Patterned Assembly of Metal Nanoparticles on Hydrogen-Terminated Silicon Surfaces for Applications in Photoelectrocatalysis

著者 (4件)： FABRE Bruno (Univ. de Rennes 1, Rennes, FRA) ,  HENNOUS Leila (Univ. de Rennes 1, Rennes, FRA) ,  ABABOU-GIRARD Soraya (Univ. de Rennes 1, Rennes, FRA) ,  MERIADEC Cristelle (Univ. de Rennes 1, Rennes, FRA)
資料名： ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 5  号： 2  ページ： 338-343  発行年： 2013年01月23日 
JST資料番号： W2329A  ISSN： 1944-8244  CODEN： AAMICK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si(100)-Hケイ素基板上にクロロ金酸溶液のマスク経由紫外線照射により金ナノ粒子を成長させ,続いてクロロパラジウム酸ナトリウム水溶液に浸漬してパラジウムを無電解析出させた。走査電子顕微鏡,エネルギー分散X線分光分析,X線光電子スペクトルによりキャラクタリゼーションを行った。水の光分解による水素発生における光触媒活性を調べた。Si(100)-Hに比べて水素発生の過電圧は450mV減少した。

シソーラス用語： ウエハ【IC】 ,  *ナノ粒子 ,  *パターン形成 ,  結晶成長 ,  紫外線照射 ,  クロロ錯体 ,  金錯体 ,  パラジウム化合物 ,  パラジウム ,  無電解めっき ,  表面構造 ,  *光電気化学反応 ,  走査電子顕微鏡 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  X線光電子スペクトル ,  *分解反応 ,  *水素発生反応 ,  光分解 ,  *触媒活性 ,  過電圧
準シソーラス用語： クロロ金酸 ,  ケイ素基板 ,  *金ナノ粒子 ,  *光触媒活性 ,  *水分解 ,  無電解析出

分類 (4件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  貴金属触媒  (CB06122I) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (8件)： 水素 ,  ケイ素 ,  金属ナノ粒子 ,  電解 ,  パターン化 ,  集合体 ,  光電気触媒 ,  応用