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J-GLOBAL ID:201302260520922390   整理番号:13A1533077

自己触媒でシリコン基板上に固体源分子線エピタクシーにより成長したGaAsPナノワイヤ

Self-Catalyzed GaAsP Nanowires Grown on Silicon Substrates by Solid-Source Molecular Beam Epitaxy
著者 (7件):
資料名:
巻: 13  号:ページ: 3897-3902  発行年: 2013年08月 
JST資料番号: W1332A  ISSN: 1530-6984  CODEN: NALEFD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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リンの含有量により広い発光波長で調節可能な三元半導体の実用化を目指し,SiO2/Si基板(111)面上に配したGa液滴を核とし,固体源分子線エピタクシー(MBE)を用いたVLS成長によりGaAsPのナノワイヤ(NW)の基板面に垂直な成長を,V/III及びP/Asフラックス比を変化させて最適化し,殆ど閃亜鉛鉱型の一様な径と高品質のNW結晶を実現した。またVLSとVS成長による結晶へのP/Asの取込み比を検討し,これら二つの成長機構の差を成長速度論により説明し,成長させたGaAsP NWにさらにエピタキシャルVS成長によりGaAsPのシェルを成長し室温における~710nmの発光を確かめた。
シソーラス用語:
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分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体の結晶成長  ,  不均一系触媒反応  ,  無機化合物のルミネセンス 

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