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J-GLOBAL ID：201302260922175183   整理番号：13A1221695

コアシェルポリ(スチレン-アクリルアミド)ナノ/微粒子により作製したフォトニック結晶の熱応答濡れ性

Thermoresponsive Wettability of Photonic Crystals Fabricated by Core-Shell Poly(styrene-acrylamide) Nano/Microspheres

著者 (6件)： ZHANG Yuqi (Yan’an Univ., Shaanxi, CHN) ,  GAO Loujun (Yan’an Univ., Shaanxi, CHN) ,  HENG Liping (Inst. Chemistry, Chinese Acad. Sci., Beijing, CHN) ,  WEI Qingbo (Yan’an Univ., Shaanxi, CHN) ,  YANG Hua (Yan’an Univ., Shaanxi, CHN) ,  WANG Qiao (Yan’an Univ., Shaanxi, CHN)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 13  号： 3  ページ： 1903-1909  発行年： 2013年03月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 固いポリスチレン(PS)コアとやわらかいポリアクリルアミドシェルをもつフォトニック結晶(PC)薄膜を,一段階エマルション共重合法により作製した。集合温度を30°Cから90°Cに制御することにより,PC薄膜の表面濡れ性を高親水性(CA,17°)から高疎水性(CA,127.8°)に同調でき,一方PC薄膜のフォトニック阻止帯の位置は変化しなかった。ラテックス球の表面化学成分の変化により明らかな濡れ性転移があり,これは最小界面エネルギーをもつ高分子セグメンの相分離に起因した。この簡単な方法は多様な環境におけるPCの新しい応用分野への道を開く。

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,  *ナノ粒子 ,  *フォトニックバンドギャップ ,  *熱応答 ,  *濡れ ,  ポリスチレン ,  ポリアクリルアミド ,  共重合 ,  親水性 ,  疎水性 ,  ラテックス ,  表面エネルギー ,  相分離 ,  脂肪族カルボン酸 ,  カルボアミド ,  ビニル化合物 ,  不飽和カルボン酸 ,  *フォトニック結晶
準シソーラス用語： コアシェルポリマ ,  コアシェル粒子 ,  阻止帯域 ,  表面化学反応

分類 (3件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  量子光学一般  (BD04010X)

物質索引 (1件)： アクリルアミド

タイトルに関連する用語 (7件)： スチレン ,  アクリルアミド ,  微粒子 ,  作製 ,  フォトニック結晶 ,  熱応答 ,  濡れ性