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J-GLOBAL ID:201302261647688694   整理番号:13A1342210

ゾル-ゲル法により調製したTiO2薄膜の物性に及ぼす還元雰囲気中の熱処理の影響

The effect of heat treatment in the reducing atmosphere on the physical properties of TiO2 thin films prepared by sol-gel method
著者 (4件):
資料名:
巻: 67  号:ページ: 236-243  発行年: 2013年08月 
JST資料番号: W0812A  ISSN: 0928-0707  CODEN: JSGTEC  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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多層ナノ構造のTiO2薄膜を石英基板上にゾル-ゲルと浸漬堆積により調整し,20%H2-80%Arの還元雰囲気下で熱処理した。次第に高い温度で熱処理することにより構造的,形態学的および光学的変化を引き起こした。これらをX線回折(XRD),原子間力顕微鏡,走査型電子顕微鏡,およびUV-可視分光法により調べた。薄膜の導電率を4点プローブ法により測定した。XRDの結果は,焼成後のTiO2薄膜がアナターゼ単相から成ることを示し,1000°Cの熱処理後に完全にルチル相に形質転換した。膜の粒子は高温での熱処理後に凝集内の緻密化により成長した。二乗平均平方根粗さは0.58から3.36nm程度の範囲であった。部分的還元したTiO2試料は酸素空孔により生成した新エネルギーバンドに起因する赤方偏移した透過バンドを有していた。薄膜の導電率も還元雰囲気での熱処理後に増加した。Copyright 2013 Springer Science+Business Media New York Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 

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