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J-GLOBAL ID:201302262329971189   整理番号:13A1028286

2段階工程によるCu2ZnSnSe4薄膜の成長と評価

Growth and characterization of Cu2ZnSnSe4 thin films by a two-stage process
著者 (4件):
資料名:
巻: 115  ページ: 181-188  発行年: 2013年08月 
JST資料番号: D0513C  ISSN: 0927-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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多結晶Cu2ZnSnSe4(CZTSe)薄膜を,初めに温度域523~723Kでの異なる基板温度(Ts)で,ソーダ石灰ガラス基板にCu/ZnSe/Sn/Se積層を熱蒸着し,次いで,積層をセレン雰囲気中723Kで1時間アニールする2段階工程で作成した。これらの膜の成長と特性におよぼすTsの効果を分析するために,構造的,ミクロ構造的および光学特性を調べた。XRD研究から,構造がa=0.569nmとc=1.139nmをもつケスターライトと分かった。Raman分光法を相補的手段に使って,第二相の存在可能性を調べた。基板温度の上昇とともに,膜の結晶性が改善された。膜のスペクトル透過率を調べた結果,アニールした積層の不均質性の可能性を考慮して,CZTSeおよび少数ZnSeを含むCZTSeに由来すると見られ,約1.0eVと1.4eVの直接バンドギャップをもつ2種類の光学遷移が明らかになった。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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半導体薄膜 
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