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J-GLOBAL ID：201302262692799410   整理番号：13A1799918

化学メーカーが取り組む流体解析基盤技術の展開(その2:流動層および液面付撹拌槽の検証)

著者 (7件)： 石羽恭 (三菱化学) ,  末益猛 (宇部興産) ,  川中俊一 (クラレ) ,  坂倉圭 (出光興産) ,  末宗咲子 (ライオン) ,  梶川真一郎 (三井化学) ,  島田直樹 (住友化学)
資料名： 化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集(CD-ROM)  (化学工学会秋季大会(CD-ROM))
巻： 45th  ページ： ROMBUNNO.XB208  発行年： 2013年08月16日 
JST資料番号： L0827B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 化学工業 ,  企業 ,  流動解析 ,  技術 ,  *流動層 ,  *撹拌槽
準シソーラス用語： 液面 ,  基盤技術 ,  *流体解析

分類 (2件)： 撹はん,混合  (XD02040M) ,  装置内の流れ  (XD01010Y)

タイトルに関連する用語 (9件)： 化学 ,  メーカー ,  流体解析 ,  基盤技術 ,  展開 ,  流動層 ,  液面 ,  撹拌槽 ,  検証