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J-GLOBAL ID：201302262852812698   整理番号：13A1595358

視射角蒸着法による酸化インジウムスズ薄膜の構造性質

Structural Properties of Indium Tin Oxide Thin Films by Glancing Angle Deposition Method

著者 (4件)： OH Gyujin (Hanyang Univ., Seoul, KOR) ,  KIM Seon Pil (Hanyang Univ., Seoul, KOR) ,  LEE Kyoung Su (Hanyang Univ., Seoul, KOR) ,  KIM Eun Kyu (Hanyang Univ., Seoul, KOR)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 13  号： 10  ページ： 7149-7151  発行年： 2013年10月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 視射角蒸着(GLAD)法により成長させた酸化インジウムスズ(ITO)薄膜の構造を光学素子の応用のために論じた。酸素供給なしにITO薄膜を電子ビーム蒸着法により作製した。異なる屈折率をもつITO薄膜を蒸気フラックスと試料支持台間の角度,および試料支持台の回転速度を制御することにより作製できた。エリプソメトリー測定により,薄膜のボイド率が蒸着角度の増加とともに増加し,また500nmの波長におけるそれらの屈折率は減少した。550~800nm波長におけるその屈折率は蒸着速度に依存した。60°で成長させた235nm厚みのITO薄膜の透過率は20~80%,次に,その屈折率は蒸着角度の増加とともに可視波長領域で増加した。

シソーラス用語： *酸化インジウムスズ ,  *電子ビーム蒸着 ,  光学素子 ,  酸素エアレーション ,  屈折率 ,  フラックス【流束】 ,  支持物 ,  回転数 ,  偏光解析法 ,  空隙率 ,  酸化物 ,  膜厚 ,  *真空蒸着
準シソーラス用語： 酸化物薄膜 ,  *視射角蒸着 ,  蒸着速度

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  酸化物の結晶成長  (BK13050I)

タイトルに関連する用語 (4件)： 視射角蒸着 ,  酸化インジウムスズ ,  薄膜 ,  構造性質