文献
J-GLOBAL ID:201302263460189808   整理番号:13A1590085

長いナノシャーププローブのタングステンからの輸送制限電気化学生成

Transport-limited electrochemical formation of long nanosharp probes from tungsten
著者 (5件):
資料名:
巻: 24  号: 35  ページ: 355702,1-8  発行年: 2013年09月06日 
JST資料番号: W0108A  ISSN: 0957-4484  CODEN: NNOTER  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
電子顕微鏡などの応用でナノシャーププローブが要り,ワイヤ尖鋭化では対流制限電解研磨(CLE)が最も信頼性の高い安価な方法として現在使われ,数nmからサブミクロンまでの曲率半径を持つワイヤチップを提供する。本報では長いナノシャープチッププローブの電気化学生成が,金属の金属酸化物/水酸化物への変換に適当な熱力学的経路選択で制御可能を示した。Wワイヤの2つの小片へ分裂するまでの電気化学エッチングでナノシャーププロ-ブを生成するCLE過程は,関連流体力学的流動の複雑さから制御し難い。電気化学反応が,電解質流を妨げ多孔性表面層を形成する金属酸化物/水酸化物を生成する輸送制限電解研磨(TLE)法を導入した。本法で長いテーパ付針を作製でき,テーパは6nm以上に広がる一方,チップ曲率は30nmまで減らせた。これらの針は強く,単一平滑血管細胞の穴あけに応用された。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (4件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体デバイス製造技術一般  ,  固体デバイス材料  ,  電気化学反応  ,  その他の表面処理 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る