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J-GLOBAL ID：201302263560595315   整理番号：13A0742284

埋込界面現場におけるポリ(ジメチルシロキサン)の分子構造調査

Probing Molecular Structures of Poly(dimethylsiloxane) at Buried Interfaces in Situ

著者 (2件)： ZHANG Chi (Univ. Michigan, Michigan, USA) ,  CHEN Zhan (Univ. Michigan, Michigan, USA)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 117  号： 8  ページ： 3903-3914  発行年： 2013年02月28日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 埋込界面における分子構造は,界面の物性を決定するため重要である。ポリエチレンテレフタレート(PET)およびシリカに埋め込まれたポリジメチルシロキサン(PDMS)の分子構造を,和周波発生振動分光法により調べた。その結果,PDMSメチル基は,PET/PDMS界面では大きな傾斜角と小さなねじれ角をもつことがわかった。一方,シリカ/PDMS界面では,大きなねじれ角と広く分散した傾斜角をもつことがわかった。また,界面におけるPDMSメチル基の絶対配向を決定した。疎水性ポリマー/PDMS界面における結果との比較より,PDMSメチル基の配向は界面の疎水性相互作用に関連することがわかった。

シソーラス用語： *ポリジメチルシロキサン ,  *界面 ,  分子構造 ,  スペクトロスコピー ,  和周波数発生 ,  ポリエチレンテレフタレート ,  *分子配向 ,  疎水性相互作用 ,  *埋込み【挿入】 ,  *その場観察 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  SFG分光法 ,  和周波発生分光法

分類 (1件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (5件)： 埋込 ,  界面 ,  現場 ,  分子構造 ,  調査