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J-GLOBAL ID：201302264035598938   整理番号：13A1576147

Ni-Si相互作用の初期段階がその反応生成物の構造にはたす役割

Role of the early stages of Ni-Si interaction on the structural properties of the reaction products

著者 (2件)： ALBERTI Alessandra (National Res. Council, Inst. for Microelectronics and Microsystems (CNR-IMM), Zona Industriale Strada VIII n°5 ...) ,  LA MAGNA Antonino (National Res. Council, Inst. for Microelectronics and Microsystems (CNR-IMM), Zona Industriale Strada VIII n°5 ...)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 114  号： 12  ページ： 121301-121301-39  発行年： 2013年09月28日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *ニッケル ,  *ケイ素 ,  ウエハ【IC】 ,  アモルファスシリコン ,  *固相反応 ,  *ケイ化物 ,  *ニッケル化合物 ,  微細構造 ,  優先配向 ,  安定性 ,  Schottky障壁 ,  結晶化
準シソーラス用語： シリコン基板 ,  *ニッケルシリサイド ,  金属誘起結晶化

分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  半導体-金属接触  (BM03084G) ,  半導体集積回路  (NC03162T)

タイトルに関連する用語 (6件)： Ni ,  Si ,  相互作用 ,  初期段階 ,  反応生成物 ,  役割