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J-GLOBAL ID：201302264297291728   整理番号：13A0408879

可視光光触媒への応用のための化学的に調整可能な二次元材料としての酸化グラフェン

Graphene oxide as a chemically tunable 2-D material for visible-light photocatalyst applications

著者 (8件)： JIANG Xue (Applied Materials Physics, Dep. of Materials and Engineering, Royal Inst. of Technol. (KTH), S-10044 Stockholm, SWE) ,  JIANG Xue (Key Lab. of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams, Dalian Univ. of Technol., Ministry of Education ...) ,  NISAR Jawad (Condensed Matter Theory Group, Dep. of Physics and Astronomy, Box 516, Uppsala Univ., 75120 Uppsala, SWE) ,  PATHAK Biswarup (Condensed Matter Theory Group, Dep. of Physics and Astronomy, Box 516, Uppsala Univ., 75120 Uppsala, SWE) ,  PATHAK Biswarup (Dep. of Chemistry, School of Basic Sciences, Indian Inst. of Technol. Indore, 452017 Indore, IND) ,  ZHAO Jijun (Key Lab. of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams, Dalian Univ. of Technol., Ministry of Education ...) ,  AHUJA Rajeev (Applied Materials Physics, Dep. of Materials and Engineering, Royal Inst. of Technol. (KTH), S-10044 Stockholm, SWE) ,  AHUJA Rajeev (Condensed Matter Theory Group, Dep. of Physics and Astronomy, Box 516, Uppsala Univ., 75120 Uppsala, SWE)
資料名： Journal of Catalysis  (Journal of Catalysis)
巻： 299  ページ： 204-209  発行年： 2013年03月 
JST資料番号： H0480A  ISSN： 0021-9517  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光触媒材料として酸化グラフェン(GO)の利用を明らかにするために,電子構造,仕事関数,CBM/VBM位置および密度汎関数計算を用いたGOの光学吸収スペクトルに対するエポキシとヒドロキシルの官能化の影響を検討した。表面のエポキシ(O)とヒドロキシル(OH)基との被覆率と相対比を変化することによって,GO材料のバンドギャップと仕事関数の両方を光触媒の必要事項に適合できるように調整することができる。興味深いことに,40-50%(33-67%)の被覆率を有して,2:1(1:1)のOH:O比率を有するGO材料の電子構造は水分解の還元および酸化反応に適している。これらの系の中で,50%の被覆率とOH:O(1:1)比率のGO組成が可視光駆動光触媒のための非常に有望な材料である。著者らの結果は有望な可視光駆動光触媒材料として二次元の酸化グラフェンについての最近の実験観察を説明するだけでなく,性能のための最適組成の設計にも非常に有益でもある。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *可視光 ,  *光触媒 ,  *酸化物 ,  *炭素材 ,  二次元 ,  電子構造 ,  仕事関数 ,  密度汎関数法 ,  光吸収スペクトル ,  エポキシ化 ,  被覆率 ,  バンドギャップ ,  エネルギー ,  分解反応 ,  触媒設計 ,  ヒドロキシ化
準シソーラス用語： ヒドロキシル化 ,  バンドギャップエネルギー ,  *酸化グラフェン ,  水分解 ,  密度汎関数計算

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (6件)： 可視光 ,  光触媒 ,  応用 ,  化学 ,  二次元材料 ,  酸化グラフェン